На ААТ «Планар» дадзены старт працы Цэнтра спецыяльнага тэхналагічнага абсталявання для вытворчасці фоташаблонаў і мікраоптыкі. Сёння адбылася цырымонія з удзелам Аляксандра Лукашэнкі.
Паведамляецца, што новы цэнтр дазваляе вырабляць вырабы для тэхналагічнага працэсу 90 нм. Цэнтр таксама будзе “палігонам для адпрацоўкі новых версій праграмнага забеспячэння, якое распрацоўваецца на прадпрыемстве”.
Маецца патэнцыял для наступнага пераходу на тэхналагічныя нормы 65 нм. Для гэтага спатрэбіцца дааснашчэнне вытворчасці.
Трэба адзначыць, што цяпер вядучыя вытворцы мікраэлектронікі, а таксама абсталявання для яе выпуску займаюцца асваеннем тэхналагічных нормаў у 1,6 і 1,4 нм. Акрамя таго, яны рыхтуюцца прадставіць тэхналогіі для працэсаў 1 нм і менш.
Падчас наведвання «Планара» Аляксандр Лукашэнка падкрэсліў, што ў сферы мікраэлектроннай прамысловасці трэба і надалей “бегчы на паўкроку наперадзе і выдаваць прадукцыю, запатрабаваную ва ўсім свеце”.